本文主要是（shì）真空室專用真空係統的介紹。真空係統的核心是真空室，它是針對具體應用量身定做的。它包括應用並將其可靠地與外（wài）部分離或防止環境受內部（bù）流程影響。不管（guǎn）幹燥過程是否需（xū）要高真空環境，等離子體過程都需要在中或高真空環境下進行，而表麵研究也需要在高真空環境下進行：真空室必須始終機械地承受其與大氣的壓差。

真空室是廣泛應用於（yú）現代製造工（gōng）業和科學研究的基本裝（zhuāng）置之一，例如（rú）電子工業、信息產業的（de）大（dà）規模印（yìn）刷線路、集成（chéng）電路和大（dà）麵積超導薄膜的製備等，真（zhēn）空沉積過（guò）程中通（tōng）常對真空度都有較（jiào）高（gāo）的要求。真空沉積時真空室的漏氣、真（zhēn）空室壁麵的（de）放氣和被蒸（zhēng）發材料本身的放氣都可能導致真空室內真空度（dù）的快速（sù）變差，因（yīn）此需要采用相應的措施快速改善（shàn）真空室內的真空度（dù）。目前，在保證真空室良好密（mì）封性的前提下，采用具有大抽速的鈦升華泵可（kě）以使真空室快速達到超高真空度。由於鈦在（zài）升化和沉積的過程中，與活性氣體結合成穩定的化合物——固相（xiàng）的TiO或TiN，從而能夠快速將真空室內的氣體分子抽除（chú）。

針對現有技術的（de）不足，本發明的目（mù）的（de）就是提供一種費用相對低（dī）廉的快速提高真空室專用真空（kōng）係統真空度的方法。

為實現上述目的，91污提供一種快速提高真空室真空度的方（fāng）法，在真空室內，使活性高且穩（wěn）定性好的金屬蒸發形成蒸氣粒子（zǐ），並（bìng）將該蒸氣粒子沉積於金屬板表麵形成金屬膜，金屬粒（lì）子及其形成的新鮮金屬膜可以快速吸附真空室內（nèi）的氣體分（fèn）子，並進一步生成穩定的固態（tài）物質。在真空室內，采用蒸發方式，使（shǐ）少量活（huó）性高且穩定性好的金屬材料蒸發為蒸氣粒子，蒸氣粒子迅速與真空室內（nèi）的水蒸氣、氧氣、氫氣（qì）等氣體發生反應（yīng），生成（chéng）穩定的固態物質，從而達到快速提（tí）高真（zhēn）空室的真空度（dù）的目的。采（cǎi）用本方法提高真空（kōng）室專用真空係（xì）統的真空度（dù），不僅費用（yòng）低廉而且迅速高效。

經（jīng）過真空室專用真空係統的（de）介紹（shào），為達到最佳配置，選擇真空（kōng）係統時，應考慮下述各點：

1.確定工（gōng）作真空範圍

首先（xiān）必須檢查確（què）定每一種（zhǒng）工藝要求的真空度。因為每一種工藝都有其適（shì）應的真空度範圍，必須認真研究確定之。

2.確定極限真空度

在確定了工藝要求的真空度的基礎上檢查真空泵係統的極限真空度，因為係統的極（jí）限真空度決定了係統的最佳工作真空度。一般來講（jiǎng），係統的極限真空度比係統的工作真（zhēn）空度低20%，比前級泵的極限（xiàn）真空度低50%。

3.真空容積

檢查確定達到要求的（de）真空度所需要的時間（jiān）、真空管道的（de）流阻與泄漏。考慮達到要求真空度後在一定工（gōng）藝（yì）要求條件下維持真空（kōng）需要的抽氣速率。

4.被抽氣體種類與抽氣量

檢查（chá）確定工藝要求的抽氣種類與抽氣量。因為如果被抽氣體種類與真空泵內液體發生反應，真空係（xì）統將被汙染。同時必須考慮確定合適的排氣時間與抽氣過程中產生的氣體量。