眾所周（zhōu）知，半導體工藝水平決定了（le）晶體管尺寸大小。在半（bàn）導體廠或光電（diàn）廠（chǎng）中，真（zhēn）空係統（tǒng）應用於提供製程設備的真空吸盤或吸筆來（lái）搬運傳送晶片或玻璃，為半導（dǎo）體製程中相當重要之支援係統。本篇文章涉及半導體製程技術領域（yù），在介紹真空係統在半（bàn）導（dǎo）體製程（chéng）中的應用之前，我司打算先對半導體製程和真空係統做些簡單的介紹（shào）。

在真空係統中，真空（kōng）針對大氣而言，表示一特定空間或係統內部分氣體被排出（chū），其內部（bù）空間的壓力小於大（dà）氣壓力，則（zé）稱此空間為真空或為真空狀態，簡單言之（zhī），空間內（nèi）壓力低於一大氣壓力即為真空。在高科技製程中所要求的高真空或超高真空，就必須要（yào）有足夠的真空（kōng）技術或設備才能達成。

半導體製（zhì）程專用真空（kōng）係統的真空度要求一般為700-~500mmHg之間，僅落在粗略真空範圍內，而製程設備真空度要求則視其應用範圍而定，而落在中（zhōng）真空度與超高真空度或以上之範圍。

不同類型（xíng）的真空泵組合而成的係統，真空度也有所不一樣，關於真空係統的類型，東莞（wǎn）市91污真空科技有（yǒu）限公司整理出幾（jǐ）大類。

真空係統的類型有三種：

1.低真空係（xì）統

2.中（zhōng）真空係統

①由（yóu）羅茨泵（bèng）為主泵串聯機械泵而（ér）構成（chéng）的（de）係統；

②由油增壓泵為主泵串聯機械泵而構成的係（xì）統；

③由羅茨泵串聯小羅茨泵，再串聯機械泵而構成（chéng）的係統。

3.高真空係統

①由擴散泵為主泵串聯（lián）羅茨泵，再串聯機械泵而（ér）構成的係統；

②由擴（kuò）散泵為主泵串聯機械泵而構成（chéng）的真空係統；

③由擴散泵為主泵（bèng）串聯油增壓泵，再串聯機械泵而構成的真空係統。

根據上述所提到的內容，在半導體製程中，最佳（jiā）的方法就是（shì）選擇應用高真空係統，高真空係統可以由不同的真空設備組合而成。

事實（shí）上簡單的真空係統隻是能獲得一個粗真空，而想要獲得高（gāo）真（zhēn）空時，通常在真空係統中串聯一個高真空泵，比如羅茨泵和螺（luó）杆泵等都是獲（huò）得高真空的泵（bèng）。當串聯一個高真空泵之後，通常要在高真空泵的入口和（hé）出口分別加上閥門，以便高真空（kōng）泵（bèng）能單獨保持真空。如果所串聯的高真空泵是一個油擴散泵，為（wéi）了防止大（dà）量的油蒸氣返流進入被抽容器，通常在油擴散泵的入口加一個捕集器——水冷障板。根據要求，還可以在管路中加（jiā）上除塵器、真（zhēn）空繼電器（qì）規頭、真空軟連接管道、真（zhēn）空泵入口放氣閥，散熱器等等，這樣就構成了一（yī）個較（jiào）完善（shàn）的高真（zhēn）空係統。

關於半導體製程（chéng）和真空係（xì）統（tǒng），小編就介紹到（dào）這裏，如果您仍對真空係統在半導體製程中的（de）應用有什麽疑（yí）惑（huò）的話（huà），隨時可以聯係（xì）我司（sī）。